Blanco de pulverización catódica de níquel-cromo (NiCr)

Los objetivos de pulverización catódica de níquel-cromo (NiCr) se utilizan para depositar películas resistivas de aleación de níquel-cromo mediante tecnología PVD. La película de níquel-cromo tiene alta resistividad, bajo coeficiente de temperatura de resistencia, alto coeficiente de sensibilidad y baja dependencia de la temperatura. La película resistiva de aleación de níquel-cromo se prepara fácilmente, y el proceso de recubrimiento PVD es maduro y el rendimiento de la capa de recubrimiento es excelente, por lo tanto, se utiliza principalmente para depositar películas resistivas de precisión en circuitos integrados híbridos, que pueden cumplir con los requisitos de rendimiento de películas sensibles a galgas extensométricas resistivas, y se utilizan comúnmente para preparar galgas extensométricas de resistencia de película delgada.

En la industria de recubrimiento PVD, el objetivo de aleación binaria NiCr y sus películas se utilizan ampliamente en películas delgadas reforzadas con superficies como resistencia a la abrasión, reducción de la abrasión, resistencia al calor y a la corrosión, así como vidrio de baja emisividad, microelectrónica, grabación magnética, semiconductores y resistencias de película y otras industrias de tecnología de alta gama.

Aplicación: Recubrimientos duros para recubrimiento de herramientas Recubrimientos decorativos, como relojes, automóviles, espejos, etc.
La industria de las pantallas planas Recubrimientos de vidrio
Fotovoltaica Comunicación óptica y almacenamiento óptico
Semiconductor, resistencia al desgaste
Recubrimientos electrónicos e IC Industria de energía solar

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