Objetivos de supresión de metales

• Customizable 4N Carbon Sputtering Target

  Our high-purity 4N carbon sputtering targets are fabricated from 99.99% pure carbon material, featuring low impurity levels and making them ideal for applications in semiconductors, optical thin...

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• Objetivos de pulverización catódica de boro personalizados

  Proporcionamos objetivos de boro denso y de alta-pureza, perfectamente adecuados para procesos de semiconductores y recubrimientos. Apoyamos la fabricación personalizada basada en dibujos...

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• Objetivo de tungsteno redondo 3N5 personalizado

  Ofrecemos objetivos de tungsteno circulares-hechos a medida con pureza 3N5 (99,95 %). Fabricados mediante pulvimetalurgia, presentan una microestructura uniforme, alta densidad y están libres de...

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• Objetivo de farfulla Hf de alta pureza personalizado

  Ofrecemos objetivos de pulverización catódica de hafnio-de alta-pureza hechos a medida, con una pureza superior al 99,9 %, con densidad uniforme y microestructura fina. Diseñados específicamente...

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• Varilla de hafnio 3N5 personalizada

  Varillas de hafnio de alta-pureza 3N5, 99,95 % de pureza, calidad de grado nuclear-. Resistente a temperaturas ultra-altas y fuerte corrosión, la primera opción para reactores nucleares, motores...

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• Objetivo de estaño 3N personalizado

  ¡El objetivo de pulverización catódica de estaño 3N de alta-pureza + la placa posterior de cobre personalizada duplican la eficiencia de la pulverización catódica! La unión perfecta evita el...

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• Diana de hafnio rectangular 3N5 personalizable

  Objetivo de hafnio 3N5 de alta-pureza, 99,95 % de pureza, dimensiones rectangulares personalizadas con una precisión micrométrica. La primera opción para recubrimientos semiconductores y...

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• Objetivo de farfulla de magnesio 4N Mg

  Los objetivos de pulverización catódica de magnesio 4N son materiales de pulverización catódica de metales de alta-pureza con una pureza mayor o igual al 99,99 %. Presentan granos finos y una...

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• Objetivo de farfulla de hafnio al 99,95% Hf

  Objetivo de pulverización catódica de hafnio de alta-pureza del 99,95%, objetivo de metal Hf de grado-aeroespacial, tamaño personalizado, placa de respaldo de cobre unida, utilizada para películas...

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• Objetivo de tubo de circonio

  Los objetivos de los tubos de circonio son tubos de circonio-de paredes delgadas y de alta-pureza que son resistentes a la corrosión-y a las altas-temperaturas, lo que produce una película densa y...

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• Blanco de pulverización catódica de berilio

  El berilio es un metal de color gris acero, bastante frágil a temperatura ambiente, y sus propiedades químicas se parecen un poco a las del aluminio.

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• Blanco de pulverización catódica de cromo (Cr)

  El blanco de pulverización catódica de cromo tiene las mismas propiedades que el cromo metálico (Cr). El cromo es un elemento químico de símbolo Cr y número atómico 24, es un metal de transición...

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