Objetivos de pulverización catódica de aleación
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Target de pulverización de zrtiEl objetivo de pulverización ZRTI se utiliza principalmente en la industria electrónica de la información, el campo de recubrimiento de vidrio, los materiales resistentes a la corrosión a alta...Más -
![Los objetivos de Zrti Sputter]()
Los objetivos de Zrti SputterLos objetivos de Sputter ZRTI son uno de los objetivos de pulverización de metales comúnmente utilizados, que pueden dividirse en objetivos planos, objetivos rociados y objetivos giratorios, etc.,...Más -
![Cironio Titanium Zrti Targue de pulverización]()
Cironio Titanium Zrti Targue de pulverizaciónEl objetivo de pulverización de circonio titanio zrti se usa ampliamente en recubrimiento de vacío de iones múltiples o PVD de magnetrón en la industria, y se puede usar como materiales...Más -
![Titanium Silicon Sputtering Target]()
Titanium Silicon Sputtering TargetEl objetivo de pulverización de silicio de titanio tiene las características de alta resistencia mecánica, buena resistencia al desgaste, resistencia a la corrosión fuerte y buena resistencia al...Más -
![Objetivo de pulverización de aleación de CR-TI]()
Objetivo de pulverización de aleación de CR-TILos recubrimientos de película delgada de alta calidad pulverizadas por el objetivo de pulverización de aleación CR-TI no solo se usan como recubrimientos decorativos para relojes, electrónica,...Más -
![Objetivo de chorro de titanio de cromo]()
Objetivo de chorro de titanio de cromoLas aleaciones de cromo de titanio a menudo se usan en el campo industrial, principalmente para la producción de condensadores en centrales eléctricas, piezas de compresor para motores, electrodos...Más -
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Targeto de aleación de titanio de cromoEl objetivo de pulverización de aleación de titanio de cromo tiene las características de una fuerte resistencia al impacto, alta resistencia a la corrosión, alta calidad de recubrimiento, larga...Más -
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Objetivo de pulverización catódica de tungsteno y titanio...Los objetivos de pulverización catódica de tungsteno y titanio se producen mediante tecnología de metalurgia de polvos y se utilizan ampliamente para semiconductores y células solares de película...Más -
![Blanco de pulverización catódica de aluminio neodimio (AlNd)]()
Blanco de pulverización catódica de aluminio neodimio (AlNd)La aleación de neodimio y aluminio es un material de uso común para la pulverización catódica con magnetrón. El aluminio tiene un punto de fusión de 66 grados, una densidad de 2,7 y una...Más -
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Objetivo de pulverización catódica de aluminio y cobre (A...El objetivo de pulverización catódica de cobre y aluminio es perfecto para una variedad de industrias y aplicaciones debido a su alta dureza, resistencia a la tracción y peso ligero. Generalmente...Más -
![Blanco de pulverización catódica de aluminio y escandio (AlSc)]()
Blanco de pulverización catódica de aluminio y escandio (...El escandio tiene un buen efecto de fortalecimiento de la dispersión sobre el aluminio. Es una estructura estable sin recristalización durante el trabajo en caliente o el estado de recocido....Más -
![Objetivo de pulverización catódica de aluminio y silicio (AlSi)]()
Objetivo de pulverización catódica de aluminio y silicio ...Los objetivos se preparan mezclando polvos de aluminio y silicio y luego se compactan hasta obtener la densidad máxima. Los materiales así compactados se sinterizan opcionalmente y luego se les da...Más
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