Descripción del objetivo de pulverización catódica ZrC con placa posterior de Cu
Un objetivo de pulverización catódica de ZrC con una placa de respaldo de cobre es un objetivo de estructura compuesta-diseñado específicamente para procesos de recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón. Combina un objetivo cerámico de alto-rendimiento con una placa de soporte metálica de alta conductividad térmica, con el objetivo de optimizar la estabilidad y eficiencia del proceso de pulverización catódica. La placa de respaldo generalmente se fabrica con cobre de alta-pureza y comúnmente está configurada en forma plana (circular o cuadrada) o tubular giratoria. La función principal de la placa de respaldo de cobre es servir como soporte estructural para el material objetivo y facilitar su conexión al equipo de recubrimiento. Más importante aún, el cobre posee una conductividad térmica excepcional, lo que le permite conducir y disipar rápidamente el calor generado dentro de la capa de ZrC durante el proceso de pulverización catódica; esto evita eficazmente el sobrecalentamiento localizado del objetivo, asegurando así la estabilidad de la operación de pulverización catódica y la calidad del recubrimiento resultante.
Características del objetivo de pulverización catódica ZrC con placa posterior de Cu
El carburo de circonio es un material cerámico que se caracteriza por una dureza extremadamente alta, una excelente estabilidad térmica y resistencia a la corrosión química, lo que le permite soportar un bombardeo de pulverización catódica de alta-intensidad y prolongar su vida útil.
Aplicaciones del objetivo de pulverización catódica ZrC con placa posterior de Cu
Es adecuado para la preparación de películas protectoras, películas conductoras o películas decorativas funcionales resistentes al desgaste-y a las altas-temperaturas-, y se aplica ampliamente en campos como los recubrimientos duros, la industria de semiconductores y las películas ópticas.
Especificaciones del objetivo de pulverización catódica ZrC con placa posterior de Cu
Pureza: 99,5%
Densidad: 6,73 g/cm3
Apariencia: gris
Diámetro: 1,0"/2,0"/3,0"/4,0"/5,0"/6,0"/hasta 21"
Grosor: 0,125"/0,25"
Control de calidad y pruebas del objetivo de pulverización catódica ZrC con placa posterior de Cu

Preguntas frecuentes sobre el objetivo de pulverización catódica ZrC con placa posterior de Cu
¿eres un fábrica o a¿fabricante?
R: Sí, somos una fábrica de objetivos de pulverización catódica de ZrC con placa posterior de Cu, pero generalmente utilizamos nuestra empresa comercial para manejar el negocio en el extranjero. Será más conveniente recibir la remesa y organizar el envío.
¿Cuál es el método de entrega?
R: Generalmente, enviamos el objetivo de pulverización ZrC con placa posterior de Cu por UPS, DHL o FedEx. Además, podemos enviar por mar a un puerto marítimo o por aire al aeropuerto más cercano.
¿Por qué su objetivo de pulverización catódica ZrC con placa posterior de Cu es tan rentable-?
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R: Inspección 100% completa con seguridad. Todos los objetivos de pulverización catódica de ZrC no calificados con placas posteriores de Cu se descartan.
¿Cómo garantiza su plazo de entrega?
R: Desde la preparación del material hasta el mecanizado y finalmente hasta una inspección completa. Cada etapa de producción es estrictamente monitoreada y controlada para brindarle un tiempo de entrega preciso.
¿Cuál es la cantidad mínima de pedido del objetivo de pulverización catódica ZrC con placa posterior de Cu?
R: Depende de la cantidad de objetivo de pulverización catódica de ZrC con placa posterior de Cu; Generalmente, no hay límite de MOQ.
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¿Cuál es el tiempo de entrega?
R: Alrededor de 7 a 20 días, lo que depende de la cantidad y producción del objetivo de pulverización catódica ZrC con placa posterior de Cu.
¿Qué tipo de paquete es?
R: Generalmente, utilizamos una caja de cartón o de madera contrachapada con material protector en el interior para garantizar la seguridad del objetivo de pulverización ZrC con placa posterior de Cu.
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