Descripción de productos
Procesamos objetivos de pulverización catódica de óxido de indio, galio y zinc (IGZO) con alta calidad a un precio competitivo. Objetivo de pulverización catódica IGZO, cuyo nombre completo es objetivo de óxido de indio, galio y zinc, que contiene cuatro elementos: indio (In), galio (Ga), zinc (Zn) y oxígeno (O). IGZO es un nuevo tipo de material semiconductor con mayor movilidad de electrones que el silicio amorfo (-Si). IGZO se utiliza como material de canal en una nueva generación de transistores de película delgada (TFT) de alto rendimiento para mejorar la resolución del panel de visualización y hacer posible los televisores OLED de pantalla grande.
Solicitud
Los objetivos de pulverización catódica IGZO se utilizan para la deposición de películas delgadas, generalmente para celdas de combustible, decoración, semiconductores, pantallas, dispositivos LED y fotovoltaicos, revestimiento de vidrio, etc. Las aplicaciones de las películas delgadas IGZO incluyen películas de óxido conductor transparente, pantallas LED, dispositivos MEMS, etc.
Características
Nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de indio, galio y zinc (IGZO) tienen diferentes formas, como disco, rectángulo, columna, escalón y forma personalizada. El diámetro típico de los objetivos circulares incluye 1 pulgada, 2 pulgadas, 3 pulgadas, 4 pulgadas o 50 mm, 60 mm, 80 mm, 100 mm, etc. El espesor típico incluye 0,125 pulgadas y 0,25 pulgadas o 3 mm, 4 mm, 5 mm, 6 mm, etc.
Nuestros objetivos de pulverización catódica se pueden unir con una placa de soporte de cobre según se solicite. También se pueden fabricar a medida objetivos de pulverización catódica de óxido de indio, galio y zinc (IGZO) de distinta pureza, forma y tamaño. Puede enviarnos su consulta para solicitar un presupuesto.
Desde la selección de materias primas hasta el control de temperatura, presión y tiempo de sinterización en caliente, seguimos estrictamente el proceso de producción específico, por lo que los objetivos de pulverización catódica de cerámica terminados tienen las características de alta pureza, alta densidad, color de superficie uniforme sin manchas ni grietas, el usuario final puede obtener tasas de erosión constantes y películas delgadas de alta pureza y homogeneidad durante el proceso PVD.
Blanco de pulverización catódica de óxido de indio, galio y zinc
Pureza: 99,99%;
Método de producción: sinterización por prensado en caliente
Dimensiones disponibles:
Circular: Diámetro=1", 2", 3" y 4", se pueden personalizar otros tamaños
Rectangular: Longitud=3mm y 6mm
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