Objetivo de titanio de metal
El objetivo de titanio de metal se fabrica principalmente mediante el método de enfriamiento del haz de electrones. Tiene alta pureza, alta resistencia específica, buena resistencia en un entorno sin oxígeno, un fuerte rendimiento de soldadura y procesamiento, buena ductilidad, conductividad térmica excepcional, resistencia al desgaste y biocompatibilidad. Tiene excelentes propiedades, como buena resistencia, alta calidad de recubrimiento, vida útil larga y propiedades no magnéticas.
El objetivo de titanio de metal se utiliza principalmente para fabricar materiales en campos de alta tecnología, como semiconductores, optoelectrónicos y materiales magnéticos. Por ejemplo, en la industria de los semiconductores, se utilizan en la fabricación de componentes electrónicos como fotodiodos, fototransistores, fotorrecisores y emisores.
Además, el objetivo de titanio metálico también se usa ampliamente en aleaciones de alta temperatura, materiales conductores, catalizadores químicos, componentes aeroespaciales y equipos médicos.
Especificación del objetivo de titanio de metal
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Calificación |
Grado 1, Grado 2 |
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Técnica |
Sinterización, forjado, recocido, rodadura, derretimiento de vacío, mecanizado |
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Pureza |
99.9%-99.995% |
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Diámetro |
Personalizado |
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Espesor |
Personalizado |
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Tamaño para la barra |
Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1 mm) |
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Tamaño para tubo |
Tubo (objetivo roty, OD: 20 mm -160 mm, espesor: 2-20 mm) |
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Densidad |
4.5g\/cm3 |
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Superficie |
Pulido, brillante, limpieza química, óxido negro, etc. |
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Forma |
Disco, placa, rectangular, cuadrado, objetivos de columna, |
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Estándar |
ASTM B385, GB, JIS |
Imagen del objetivo de titanio de metal
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