Objetivo de pulverización catódica Ti50Al50

Suministramos objetivos de pulverización catódica de alta calidad: objetivos de pulverización catódica Ti50Al50, objetivos de cerámica y objetivos de metal.

Los objetivos de pulverización catódica Ti50Al50 se producen mediante tecnología HIP y se utilizan ampliamente para el recubrimiento de herramientas y el recubrimiento decorativo. En comparación con la tecnología de fusión, los objetivos de TiAl producidos mediante tecnología HIP tienen una microestructura interna más uniforme, un tamaño de grano más pequeño y son adecuados para varias máquinas de pulverización catódica con magnetrón y máquinas de recubrimiento iónico. El usuario final puede obtener tasas de erosión constantes, así como una alta pureza y un recubrimiento de película fina homogéneo durante el proceso de PVD.

Las herramientas recubiertas con películas delgadas de TiAl tienen velocidades de avance más altas, mejor rendimiento de corte, mayor vida útil y se pueden lograr mayores tasas de remoción de metal sin dificultad.

Nuestros objetivos de pulverización catódica Ti50Al50 se producen mediante un proceso HIP avanzado y un proceso de prensado en caliente al vacío, incluidos objetivos planos, objetivos de arco circular, objetivos cilíndricos (fabricados mediante el método de formación monolítica), etc. Tiene características de amplia relación de componentes (desde 10at%-90at% para componentes de Al), alta pureza y densidad, grano fino y uniforme y mayor vida útil, etc.

Las relaciones de componentes típicas para los objetivos de TiAl incluyen 33:67at%, 50:50at% y 70:30at%, etc.

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