Descripción de productos
Nuestro objetivo de aleación de aluminio y cromo adopta un avanzado proceso de prensado isostático en caliente. Los productos incluyen objetivos rectangulares, objetivos de arco y objetivos de tubo formados integralmente con una gran relación de aspecto, etc., con una amplia gama de proporciones de composición, alta pureza y densidad, las ventajas de granos de cristal pequeños y uniformes y una larga vida útil. Se puede ajustar libremente según los requisitos del cliente y la densidad real es cercana al 99%.
El siguiente es el proceso de producción del objetivo de cromo de aluminio.
Materias primas - mezcla de polvos - revestimiento - pulverización de aleación - prensado de revestimiento - prensado isostático en caliente - inspección metalográfica - corte de alambre - mecanizado - inspección dimensional - limpieza-embalaje
Inspección metalográfica de un objetivo de pulverización catódica de aleación de aluminio y cromo
Mediante el forjado, laminado y tratamiento térmico repetidos, podemos ajustar adecuadamente la microestructura del material objetivo para lograr el efecto deseado. Si el tamaño de grano del material objetivo de pulverización es uniforme, el usuario puede obtener una buena tasa de pulverización y un revestimiento uniforme. La siguiente imagen es una imagen de inspección metalográfica microscópica de un objetivo de pulverización de cromo de aluminio (AlCr 70/30at%), con un tamaño de partícula promedio<100μm.
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Artículo |
Objetivos de pulverización catódica de aluminio y cromo (objetivo de AlCr) AlCr30at% AlCr50at% AlCr40wt% etc. |
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Material |
Materiales metálicos de aluminio |
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Pureza |
99.9%-99.95%, 3N,3N5 |
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Tamaño |
10 x 10 x 10 mm, 1-10 mm, D3 x 3 mm, 1 pulgada, 2 pulgadas, 3 pulgadas o según pedido |
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Color |
Color metalizado |
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Forma |
Pellets, gránulos, planos/redondos/en placa/giratorios/en barra, según solicitud. |
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Superficie |
Superficie pulida |
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Densidad de Crecimiento |
7,19 g/cm3 |
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Punto de fusión del Cr |
1890 grados |
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Solicitud |
Recubrimiento de película PVD, recubrimiento de película delgada óptica, uso industrial, proceso, área de semiconductores, experimentos, etc. |
Composición disponible
Blanco de pulverización catódica de AlCr70/30at%
Blanco de pulverización catódica de AlCr50/50at%
Blanco de pulverización catódica de AlCr60/40at%
Blanco de pulverización catódica de AlCr30/70at%
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