Descripción de productos
El material de destino de ITO, óxido de indio y estaño, es un importante material conductor transparente. En el campo de la preparación de películas delgadas, los objetivos de ITO se utilizan ampliamente como materia prima básica en dispositivos electrónicos y optoelectrónicos. Puede proporcionar una buena conductividad manteniendo al mismo tiempo una alta transparencia, lo que hace que el ITO sea una opción ideal para preparar películas conductoras transparentes.
Análisis de composición y composición química
Blanco de pulverización catódica de óxido de indio y estaño (ITO)
El material de destino ITO es un compuesto formado por dos elementos, indio (In) y estaño (Sn), en un entorno oxidante. La fórmula química es In2O3: SnO2 y, por lo general, la relación de indio a estaño en peso es de aproximadamente 90:10. Esta combinación química específica garantiza una alta transparencia y una excelente conductividad del material. La función principal del indio es proporcionar una alta conductividad y la adición de estaño se utiliza para mejorar la estabilidad química y la dureza mecánica de todo el material.
Propiedades físicas y químicas
Transparencia óptica: ITO exhibe un alto grado de transparencia, especialmente en la banda de luz visible, lo que lo hace particularmente crítico en aplicaciones como pantallas LCD y pantallas táctiles.
Conductividad: La conductividad del ITO es otra característica significativa, atribuida principalmente a la estructura electrónica del óxido de indio y estaño, lo que lo convierte en un material conductor ideal, especialmente en aplicaciones que requieren electrodos transparentes.
Estabilidad térmica: A altas temperaturas, el ITO puede mantener la estabilidad de sus propiedades químicas y físicas, lo que es crucial para los dispositivos electrónicos que operan a altas temperaturas.
Dureza mecánica: Aunque el ITO tiene un cierto grado de fragilidad, su dureza mecánica todavía es suficiente para satisfacer los requisitos de la mayoría de las aplicaciones electrónicas.
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Nombre |
Objetivo de pulverización catódica de ITO Objetivo cerámico de óxido de indio y estaño (objetivos de ITO) |
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Material |
Materiales metálicos de indio |
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Pureza |
99,9 %-99,999 %, 3N, 3N5, 4N, 5N, etc. |
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Tamaño |
D50,8 x 3 mm, 1-10 mm, D3 x 3 mm, 2 pulgadas, 3 pulgadas o según pedido |
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Color |
De color negro |
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Forma |
personalizado |
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Superficie |
Superficie pulida |
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Densidad |
7,31 g/cm3 |
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Punto de fusion |
156 grados |
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Solicitud |
Recubrimiento de película PVD, recubrimiento de película delgada óptica, uso industrial, proceso, área de semiconductores, experimentos, etc. |
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