Blanco de pulverización catódica de silicio (Si)
Blanco de pulverización catódica de silicio (Si)

Blanco de pulverización catódica de silicio (Si)

El silicio policristalino, también llamado polisilicio o poli-Si, es una forma policristalina de silicio de alta pureza que se utiliza como materia prima en la industria de la energía solar fotovoltaica y la electrónica. El polisilicio se produce a partir de silicio de grado metalúrgico mediante un proceso de purificación química, denominado proceso Siemens.
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El silicio policristalino, también llamado polisilicio o poli-Si, es una forma policristalina de silicio de alta pureza que se utiliza como materia prima en la industria de la energía solar fotovoltaica y la electrónica. El polisilicio se produce a partir de silicio de grado metalúrgico mediante un proceso de purificación química, llamado proceso Siemens. Este proceso implica la destilación de compuestos volátiles de silicio y su descomposición en silicio a altas temperaturas. Un proceso alternativo de refinamiento emergente utiliza un reactor de lecho fluidizado.

 

La industria fotovoltaica también produce silicio de grado metalúrgico mejorado (UMG-Si), utilizando procesos de purificación metalúrgicos en lugar de químicos. Cuando se produce para la industria electrónica, el polisilicio contiene niveles de impurezas de menos de una parte por mil millones (ppb), mientras que el silicio policristalino de grado solar (SoG-Si) es generalmente menos puro.

 

La materia prima de polisilicio (barras grandes, normalmente partidas en trozos de tamaños específicos y envasadas en salas blancas antes del envío) se moldea directamente en lingotes policristalinos o se somete a un proceso de recristalización para formar bolas monocristalinas. A continuación, los productos se cortan en finas obleas de silicio y se utilizan para la producción de células solares, circuitos integrados y otros dispositivos semiconductores.

El objetivo de pulverización catódica de silicio, como material funcional muy importante, se utiliza principalmente para depositar SiO2, Si3N4 y otras capas dieléctricas mediante el proceso de pulverización catódica magnética. Estas películas delgadas se caracterizan por una excelente dureza, propiedades ópticas y dieléctricas, resistencia al desgaste y a la corrosión, que se aplican ampliamente en el campo del vidrio conductor transparente para LCD, el vidrio de construcción LOW-E y la microelectrónica.

 

Especificaciones del silicio (Si)

 

tipo de material

Silicio

Símbolo

Si

Peso atomico

28.0855

Número atómico

14

Color/Apariencia

Gris oscuro con un matiz azulado, semimetálico

Conductividad térmica

150 W/m.K

Punto de fusión (grado)

1,410

Resistividad en masa

>1 OHMIO-CM

Coeficiente de expansión termal

2.6 x 10-6/K

 

Materiales relacionados con la pulverización catódica

 

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