Ti objetivo de pulverización puro Ti

El objetivo de pulverización de Ti puro tiene alta pureza, buena superficie esmalte, buena conductividad eléctrica y térmica, buena resistencia al impacto, buen desgaste y resistencia a la corrosión, alta resistencia a la tracción, buena ductilidad.

Envíeconsulta

En comparación con otros objetivos, los objetivos metálicos están en una mayor demanda del mercado que los objetivos cerámicos, su rendimiento es mayor y la vida útil es más larga. Para el objetivo de pulverización, cuanto mayor sea la pureza química del metal, mejor será la conductividad y la resistencia al desgaste de la película hecha de ella.

Aplicación de Ti Puttering Target de Ti Ti

1. Materiales de recubrimiento decorativos

2. Materiales de implantes biológicos

3. Material de Getter: el titanio tiene una fuerte capacidad de adsorción para gases activos, y puede usarse en sistemas de bombas de vacío ultra altas y bombas de iones de pulverización

4. Materiales de información electrónica de alta tecnología: el consumo de titanio de alta pureza para circuitos integrados y pantallas de paneles planos ha aumentado

Especificación del objetivo de pulverización pura Ti

Calificación	Grado 1, Grado 2
Técnica	Sinterización, forjado, recocido, rodadura, derretimiento de vacío, mecanizado
Pureza	99.9%-99.995%
Diámetro	<350mm
Espesor	1-100 mm
Tamaño para la barra	Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1 mm)
Tamaño para tubo	Tubo (objetivo roty, OD: 20 mm -160 mm, espesor: 2-20 mm)
Densidad	4.5g\/cm3
Superficie	Pulido, brillante, limpieza química, óxido negro, etc.
Forma	Disco, placa, rectangular, cuadrado, objetivos de columna,
Estándar	ASTM B385, GB, JIS